NOVAの薄膜計測、光学CD計測、形状プロファイル計測システムは、90 nmから最先端の45 nm、32 nmテクノロジー・ノードに至るまで、300 mm/200 mmウエハを使ったICファブの計測およびプロセスコントロールの複雑な問題に対応します。
ＮＯＶＡは、パターニングの分野でも、装置組み込み型、スタンドアロン型のさまざまな計測機器で、エッチングとリソグラフィに対応する総合的なソリューションを提供しています。