NOVAの薄膜計測、光学CD計測、形状プロファイル計測システムは、90 nmから最先端の45 nm、32 nmテクノロジー・ノードに至るまで、300 mm/200 mmウエハを使ったICファブの計測およびプロセスコントロールの複雑な問題に対応します。
CMPの分野では、DielectricCMP、CopperCMPそしてPolyPlugCMPに至るアプリケーションへ組み込み型（IM）およびスタンドアロン（SA）計測ソリューションを提供しています。