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NOVAのシステムは、高精度の垂直入射偏光スペクトル・リフレクトメータを使用しています。この技術は、スクライブラインおよびダイサイトにおける複雑な2D、3D光波散乱計測アプリケーションの測定や、複数の層で構成される薄膜スタックのキャラクタリゼーションを容易にします。 NOVAのソリューションは、小型で高スループットのため、スタンドアロン型プラットフォームと装置組み込み型計測モジュールの両方に光波散乱計測(スキャトロメトリ)ツールを採用することができます。 垂直入射(ノーマルインシデント)計測の利点: 垂直入射計測は、光波散乱計測を行う場合に本質的に安定していて正確です。すなわち、高斜角システムに比較して、入射角度の変化による誤差の影響をそれほど受けません。 フリート(ツール間)マッチング機能: NOVAは、大量の装置組み込み型(IM)計測器を提供してきた経験から、システム・キャリブレーションに優れた技術を持っています。 生産現場のツールをマッチさせ、ツール・マッチングを複数の製造設備にわたってツールの長期に渡り維持できることは、一般的なツール間マッチング、特にフリート・マッチングを達成する上で決定的要因です。この点は、お客様による多数の評価によって認められています。 NOVAは、モデリング・ソフトウェアや解析ソフトウェアと組み合わせて高い精度と再現性を達成し、トレース可能なTMU(Total Measurement Uncertainty:総計測不確定性)において業界最高水準を達成しています。
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| Measurement of patterned structures using DUV Polarized Spectral Reflectometry |
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